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氨逃逸的檢測(cè)方法對(duì)比

更新時(shí)間:2022-06-06      瀏覽次數(shù):1928

國(guó)內(nèi)氨逃逸的設(shè)備已經(jīng)有數(shù)年的使用歷史了。批使用的氨逃逸設(shè)備基本都是進(jìn)口品牌,典型的如西門子,ABB原位對(duì)穿式為主。經(jīng)過(guò)幾年的應(yīng)用總結(jié)和技術(shù)消化吸收,又發(fā)展出了抽取式+多折光學(xué)氣室抽取式+單折光學(xué)氣室原位插入式等幾種不同的方式。

對(duì)比傳統(tǒng)的煙氣成分SO2NOx,氨氣自身的物理和化學(xué)特性比較特殊。氨氣易溶于水,且易吸附于多種材料表面,檢測(cè)限值明顯低于NOx,低于其十分之一。這些限制同時(shí)造成了氨氣的標(biāo)準(zhǔn)氣體(比如3ppm)配置難度大,預(yù)處理難度高,標(biāo)定設(shè)備要求高等一系列問(wèn)題。

檢測(cè)方法

原位對(duì)穿式

原位單端插入式

抽取式+多折光路

抽取式+單折光路

典型品牌

西門子,ABB,仕富梅,優(yōu)勝

西克,國(guó)產(chǎn)某品牌

優(yōu)勝,國(guó)產(chǎn)某品牌

國(guó)產(chǎn)晟諾

產(chǎn)品成本

成本低,因?yàn)闆](méi)有預(yù)處理設(shè)備

成本低。因?yàn)闆](méi)有預(yù)處理設(shè)備

成本高,因高溫多折光學(xué)氣室技術(shù)難度高。

成本較高。因預(yù)處理系統(tǒng)復(fù)雜,激光器和重要光學(xué)鏡片進(jìn)口

銷售價(jià)格

價(jià)格高,因進(jìn)口品牌

價(jià)格高,因進(jìn)口品牌

單價(jià)高,因進(jìn)口品牌

價(jià)格低,因自主設(shè)計(jì),自有

產(chǎn)品維護(hù)

因煙道震動(dòng),粉塵大,光透過(guò)率低,調(diào)光困難,清洗鏡片困難。

重要光學(xué)鏡片在高溫?zé)煹乐校孜廴疽啄p,損耗大,配件昂貴。維護(hù)工作量大。

高溫多折氣室非常精密,調(diào)光困難,對(duì)鏡片污染敏感,鏡片價(jià)格昂貴。維護(hù)難度大。

預(yù)處理與CEMS相似,維護(hù)簡(jiǎn)易,維護(hù)周期長(zhǎng)。光路結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,調(diào)光容易。部分功能可以自由定制,配合現(xiàn)場(chǎng)需求。

產(chǎn)品性能

性能有缺陷,大量設(shè)備閑置停用。無(wú)法現(xiàn)場(chǎng)標(biāo)定。

實(shí)驗(yàn)室驗(yàn)證效果好,但是現(xiàn)場(chǎng)無(wú)法標(biāo)定,無(wú)法驗(yàn)證。

光程最長(zhǎng),實(shí)驗(yàn)室性能優(yōu)秀。現(xiàn)場(chǎng)粉塵大時(shí),性能下降大。

達(dá)到進(jìn)口設(shè)備水平。可滿足在線監(jiān)測(cè)要求;可以現(xiàn)場(chǎng)標(biāo)定驗(yàn)證


晟諾氨逃逸的特點(diǎn)和幾個(gè)技術(shù)難題的應(yīng)對(duì)方案

現(xiàn)場(chǎng)高溫?zé)釢癯槿》āTO(shè)備安裝在煙道附近,高溫伴熱長(zhǎng)度小于5米,吸附效應(yīng)小,采樣損失小。實(shí)測(cè)采樣損失小于0.5ppm,且不影響測(cè)值趨勢(shì),能夠有效反映噴氨與脫硝狀態(tài)
預(yù)處理系統(tǒng)采用二級(jí)過(guò)濾,濾芯和氣路選擇了特別材質(zhì)和涂層處理工藝,耐高溫,不吸水,吸附較小。
自帶標(biāo)定管路,可以隨時(shí)現(xiàn)場(chǎng)標(biāo)定驗(yàn)證。而且,標(biāo)定的氣體溫度和實(shí)測(cè)氣體溫度一致。進(jìn)口原位式設(shè)備只能實(shí)驗(yàn)室常溫狀態(tài)下標(biāo)定,與現(xiàn)場(chǎng)工況差別較大。
采用優(yōu)化的單折光路設(shè)計(jì),可適應(yīng)高溫高粉塵的應(yīng)用。
激光器和重要光學(xué)鏡片采用進(jìn)口品牌,壽命和質(zhì)量有保證。
全套自主研發(fā)生產(chǎn),有效降低產(chǎn)品成本。而且,后期的性能改可根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)條件、客戶需求進(jìn)行定制化服務(wù)

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